Ultrasoon verstuivingssysteem voor fotoresistcoating

 

 

 

Ultrasoon verstuivingssysteem voor fotoresist-resistcoating voor fotoresist-resist-coating is een alternatieve methode voor spincoating. De fotoresistoplossing wordt door hoogfrequente ultrasone trillingen verneveld tot een vloeistof van micrometergrootte. Vervolgens worden de fotoresistdruppeltjes op het substraatoppervlak afgezet om een ​​continue fotoresistfilm te vormen. Daarom kan spuiten het gehele oppervlak van elke substraatvorm bedekken en een conforme coating opleveren, ongeacht de topologie.
Om fotoresist te kunnen spuiten moet de fotoresist een voldoende lage viscositeit hebben. Meestal kan het bij een viscositeit van enkele cSt nodig zijn om de fotoresist met een oplosmiddel te verdunnen. Het verdunnen van fotoresist kan het verouderingsproces van fotoresist versnellen en deeltjes in het medium vormen. Een andere beperking van het spuiten is dat het moeilijk is om dunne films kleiner dan 1 µm te vormen vanwege de willekeurige verdeling van druppels die op het oppervlak vallen. Om een ​​continue dunne film te vormen, is het noodzakelijk om de minimale kritische fotoresistdruppeldichtheid te bereiken, waardoor de minimale filmdikte en verwerkingstijd toenemen.

 

 

 

 

 

1. Productie van halfgeleiders: Tijdens het productieproces van de chip kan ultrasoon spuiten van fotoresist de nauwkeurigheid van het fotolithografieproces verbeteren.
2. Micro-nanoverwerking: Nauwkeurige fotoresistcoating is cruciaal bij de fabricage van microstructuren en nanostructuren.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Populaire tags: ultrasoon verneveling spuitsysteem voor fotoresist coating, China ultrasoon verneveling spuitsysteem voor fotoresist coating fabrikanten, leveranciers, fabriek